En el árido desierto de Atacama, Chile, el Observatorio Europeo Austral (ESO) está construyendo el Telescopio Extremadamente Grande (ELT), el mayor telescopio óptico del mundo. Este gigantesco proyecto, cuyo objetivo es comenzar a capturar imágenes en 2028, promete expandir significativamente nuestra comprensión del universo. Un elemento crucial en este ambicioso esfuerzo son los espejos avanzados diseñados específicamente para el ELT, considerados entre los más complejos jamás fabricados. La doctora Elise Vernet, especialista en óptica adaptativa en ESO, supervisa la creación de estos cinco espejos gigantes, que jugarán un papel central en la recolección y canalización de la luz hacia los instrumentos del telescopio.
El espejo primario, conocido como M1, es el más grande jamás construido, con un diámetro de 39 metros, compuesto por 798 segmentos hexagonales. Este espejo captará 100 millones de veces más luz que el ojo humano y deberá mantener una precisión extrema, 10,000 veces superior al grosor de un cabello humano. Por otro lado, el espejo M4 es el mayor espejo deformable jamás fabricado, capaz de modificar su forma 1,000 veces por segundo para corregir las distorsiones causadas por la atmósfera y las vibraciones del telescopio. Ambos espejos reflejan el nivel de sofisticación y precisión requerido para este proyecto, siendo considerados obras maestras de la ingeniería óptica.
Paralelamente, en Alemania, el equipo de ESO en Garching ha desarrollado un espejo cuántico a una escala increíblemente diminuta. Este espejo fue creado utilizando una capa de 200 átomos alineados que, colectivamente, reflejan la luz, y han sido capaces de controlar la dirección de la luz reflejada a través de la adición de un solo átomo. Este desarrollo tiene potenciales aplicaciones en tecnologías cuánticas, como redes cuánticas resistentes a hackers. Estos avances subrayan el compromiso de la comunidad científica para explorar tanto las escalas más grandes como las más pequeñas del universo, utilizando tecnología de vanguardia.
Otro desarrollo notable relacionado con espejos proviene de la empresa alemana Zeiss, que está fabricando espejos ultrafinos para las máquinas de litografía ultravioleta extrema (EUV). Estos espejos son esenciales para la fabricación de chips informáticos más avanzados, permitiendo imprimir más transistores en la misma superficie de silicio. La precisión de estos espejos es tal que podrían distinguir una pelota de golf en la Luna desde la Tierra. La tecnología EUV es fundamental para la industria de los semiconductores, que sigue avanzando hacia la creación de microchips cada vez más potentes, con la visión de alcanzar un billón de transistores en un solo chip para 2030.